单面光刻机也属于四川光刻机的一种，下面小编为大家介绍一下单面光刻机的主要构成和特点是什么？

1、适用于4″、3″、2″基片，基片厚度≤1.5mm 。

2、具有相对应的版夹盘，□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。

3、调密着真空度，能实现硬接触、软接触和微力接触曝光。

4、采用鹰眼曝光头，光的不均匀性≤±3%，曝光时间0～9999.9秒可调。

5、具有预定位靠尺：利用基片切边进行定位，定位精度≤1微米 。

6、具有双工作承片台，利用曝光时间，进行卸片、上片工作。

主要用途

主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。

由于本机找平机构**，找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。

主要构成

主要由高精度对准工作台、双目分离视场显微镜(或CCD显微显示系统)、多点光源（蝇眼）曝光头、PLC电控系统、气动系统、真空管路系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。

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