近日疫情在国外一些**爆发，荷兰这一**的防护物质不够想向中国订购，网络上就出现了一片呼声建议荷兰用光刻机来换。这是为什么呢？光刻机到底有什么魔力是用来干什么的呢？和成都光刻机厂家一起往下了解一下吧。

一、光刻机是干嘛的？

光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的影子投影到幕布上。芯片那么精细，是怎么生产出来的呢？用刀刻？用水冲？都不行，因为芯片太精细了，动辄几十nm的线条，日常没有什么材料能做成这么精细的刻刀。所以我们就想了一个办法，用光线来刻，这也就是光刻机。怎么个用光刻法呢？我们都用过胶卷相机吧，胶片平日里是黑色的，不能见光的，一旦见光就会变白，我们也找了一种一见光就“易溶解”的特殊胶片。当我们想要在芯片上刻一个圆圈的时候，我们就在芯片上涂上这种特殊胶片，拿一个圆圈光照上去，再经过一些列后续处理，我们在这个芯片上就做出了一个圆圈图形了对吧。光刻机就是用这种胶片来刻出图形的。剩下的问题是，我们怎么把一种我们想要的特定图形打到胶片上呢？我们见过老式投影仪吧，原理跟皮影戏是一样的，做一个“剪纸”，拿灯光一照，这个剪纸就映在幕布上了。我们也想办法在光刻机里做了这样的“剪纸”，拿光源一照，这个剪纸就映在胶片上了。以上就是光刻机的通俗理解。

二、光刻机原理 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。

常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形。 在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 下面，简单介绍一下图中各设备的作用。 1、测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是本次所说的双工作台。 2、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。 3、能量控制器：控制*终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。 4、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。 5、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。

6、能量探测器：检测光束*终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。 7、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。 8、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。 9、物镜：物镜由20多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射的硅片上，并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大，精度的要求高。 10、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、notch。 11、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

三、认清光刻机性能指标

1、光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 2、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的*细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 3、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。 4、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。 5、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

四、光刻机作用

光刻机是微电子整备的空头，其具有技术难度*高、单台成本*大、决定集成密度等特点。

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