G-43B6型高精密单面光刻机

产品介绍：

设备概述:

本设备是我公司根据市场需求研发的产品，通常情况下可曝光基片尺寸为：Φ6"，对被光刻基片的外形、厚度要求较低，可对多种材料的基片进行光刻，它特别适用做一次光刻的产品，可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。加之光均匀性好（Φ150mm范围内≤±6%），所以大大提高了设备的光刻质量

主要构成
主要由防震工作台、高均匀性曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。 1. 适用范围广Φ150mm以下，厚度(包括非圆形基片

本设备配置有可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构；具有真空掩膜版架、真空片吸盘。3. 操作简便

采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件，使本机具有非常高的可靠性。5. 特设功能

主要技术参数：

1、操作方式：手动；

2、曝光模式：接触式曝光；

3、出射光斑≤φ150mm；

4、紫外光源：g线（436nm）或i线（365nm）；

5、光强≥5mw/cm²（i线365nm; h线405nm; g线453nm的组合紫外光）；

6、曝光分辨率：3um；

7、曝光头汞灯为GCQ350W型**压直流球形汞灯。