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G-30D4型高精密单面光刻机
设备概述:
本设备为我公司专门针对各大、中、小型企业的使用特性而研发的一种高精密双面光刻机，它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产,它具有生产效率高、结构简单、操作维护方便等优势，本机不仅适合4英寸以下各型基片的曝光，也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。 主要由防震工作台、LED专用曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。
曝光头及部件图
主要功能特点
Φ100mm以下，厚度(包括非圆形基片
2. 结构稳定 有真空掩膜版架、真空片吸盘。 本设备操作简单，调试、维护、修理等都非常简便。 采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械 5. 特设功能 的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题
主要技术指标 1、曝光类型：接触式，双面，一次同时曝光(配置4″LED专用曝光头) 2、曝光面积：110×110mm； 3、曝光照度不均匀性：≤±3%； 4、曝光强度：0～30mw/cm²可调； 5、紫外光束角：≤3°； 6、紫外光中心波长：365nm； 7、紫外光源寿命：≥2万小时； 8、工作面温度：≤30℃ 9、采用电子快门； 10、曝光分辨率：2μm(曝光深度为线宽的10倍左右) 11、曝光方式：接触式曝光； 12、掩模版尺寸：≤127×127mm； 13、基片尺寸：≤ Φ100mm; 14、基片厚度：≤5 mm； 15、曝光定时：0～999.9秒可调；
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