G-43D4型高精密单面光刻机

产品介绍：

设备概述:

本设备是我公司根据市场需求研发的产品，可以光刻Φ4"以下基片，对被光刻基片的外形、厚度要求较低，可对多种材料的基片进行光刻。它特别适用进行一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。按用户要求可提供圆形承片台或方形承片台,不管哪一种承片台，都能实现“真空密着”曝光,加之光均匀性好，所以大大提高光刻质量。

曝光头及部件图

-主要构成
主要由防震工作台、高均匀性LED4"专用曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。

主要功能特点

1. 适用范围广
适用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的一次曝光。
     2. 结构**
    本设备配置有可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构；具

有真空掩膜版架、真空片吸盘。
    3. 操作简便
    本设备操作简单，调试、维护、修理等都非常简便。
    4. 设备运行稳定、可靠
    采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械

零件，使本机具有非常高的可靠性。
    5. 特设功能
    除标准承片台外，还可以为用户定制专用承片台，来解决非圆形基片、碎片和底面不平 的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题

主要技术参数：

1、操作方式：手动。

2、曝光模式：接触式曝光。

3、曝光面积：Φ4"，配置4"LED专用曝光头，紫外光源寿命≥2万小时

4、紫外光源：365nm。

5、实现“真空密着”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：2um

7、 光的不均匀性：≤±3%；

8、样品尺寸：Φ100mm。

9、曝光强度：0～30mw/ cm²可调（此指标用紫外光源I线365nm测量）。